Mikrobereichsanalyse - Elektronenstrahl-Mikroanalyse (ESMA) - Vokabular
Microbeam analysis - Electron probe microanalysis (EPMA) – Vocabulary
Das im Norm-Entwurf beschriebene Messverfahren dient zur Ermittlung von Rauheitskenngrößen der Oberflächen von metallischen Flacherzeugnissen. Die Überarbeitung wurde erforderlich, um neben dem Tastschnittverfahren auch optische Rauheitsmesssysteme zuzulassen. Die entsprechenden Ergänzungen wurden insbesondere in den Abschnitten 3 und 4 vorgenommen. Der Norm-Entwurf definiert die Bedingungen für die Rauheitsmessung für zwei Gruppen von Erzeugnissen. / Änderungsvermerk: Gegenüber DIN EN 10049:2006-02 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Optisches Messsystem in 3.3, Anmerkung 1, aufgenommen; b) Definition der Mittellinie in 3.8 neu formuliert; c) Erläuterungen zum optischen Messsystem in Abschnitt 4 aufgenommen; d) Maximaler Prüfabstand 1,6 µm für Anwendungsgruppe 1 in Tabelle 1 geändert; e) Norm redaktionell überarbeitet.