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Atmosphärendruck C-CVD-Beschichtungsverfahren - Trends und Entwicklungen
Beim C-CVD-Verfahren erfolgt die Abscheidung auf Basis der bekannten CVD-Technik in einer Brenngasflamme. Durch Modifikation der Anwendung bei Atmosphärendruck ergibt sich eine Beschichtungstechnik mit sehr breiten Einsatzmöglichkeiten. Als Substrat kommen nahezu alle Materialien in Betracht und die Abscheidung kann nicht nur auf flächigen Körpern sondern auch bei dreidimensional geformten Oberflächen mit gutem Ergebnis eingesetzt werden. Derzeit werden entsprechenden Lösungen entwickelt, um die Auswahl der Beschichtungswerkstoffe über die bisher eingesetzten Oxide des Siliziums und Titans deutlich erhöhen zu können.
Galvanotechnik, 98 (2007)8, S. 1978-1982, 5 Abb., 12 Lit.-Hinw. Weidl, R.; Zobel, B.; Heft, A.; Pfuch, A.; Gitter, U.; Grünler, B.; Richter, Th.; Erbe, Ch.
Atmospheric Pressure C-CVD Coating Processes - Trends and Developments
In the C-CVD process, deposition is based on conventional CVD but carried out in a fuel gas flame. As modified to operate under atmospheric pressures, this creates a deposition technology which can be used in a wide range of applications. Virtually any material can be used as substrate and deposition is not restricted to flat surfaces, but can be used with success on 3D shapes. At present, coatings are restricted to those of silica or titania, but development is under way to extend the range of coating materials.
