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Die Bestimmung von Energieflüssen bei Plasmaober?ächenprozessen
Es wird ein Überblick über verschiedene Methoden zur Bestimmung des Energieeinstroms und dessen Einfluss auf das thermische Gleichgewicht und die energetischen Bedingungen an der Substratoberfläche bei Plasmaprozessen gegeben. Die Mechanismen schließen Wärmestrahlung sowie kinetische und potenzielle Energie geladener Teilchen und zerstäubter Neutralteilchen ein. Für einige Beispiele wie das Magnetronsputtern von a-C:H Schichten, die Sputterdeposition von Aluminium auf Mikroteilchen und die Abscheidung einer Titanschicht im Hohlkatodenbogenverdampfer wird die thermische Bilanz der Substrate während des Plasmaprozesses diskutiert.
Galvanotechnik, 96 (2005)12, S. 2996-3007, 13 Abb., 26 Lit.-Hinw. Kersten, H.; Rohde, D.; Steffen, H.; Deutsch, H.; Hippler, R.
Measurement of Energy Fluxes in Plasma Surface Treatments
A review is presented of the various means by which energy flows and their effects on thermal equilibria and the energetic conditions at a substrate surface, can be determined during plasma processing. Mechanisms can include thermal radiation, as well as bombardment with kinetic- or potential energy-charged particles as well as sputtered, uncharged particles. Among examples discussed are magnetron sputtered a-C:H coatings, sputter-coating of aluminium onto microparticles and titanium coating using a hollow-cathode vacuum evaporation unit. The thermal balance prevailing during plasma processing in these cases is discussed.
