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Einsatz von dünnen Siliziumoxid?lmen, hergestellt durch PACVD bei Atmosphärendruck
Mit einem neu entwickelten Plasmastrahlverfahren lassen sich unter Einsatz eines Precursors und Arbeitsgases dünne Siliziumoxidfilme herstellen. Diese Schichten lassen sich beispielsweise als Barriereschichten oder als Korrosionsschutz auf verschiedenen Substraten auftragen. Die Anwendung wurde auf nichtmetallischen Substraten wie Glas oder Kunststoff sowie auf Leichtmetallen untersucht. Auf PET-Folie wurden die Eigenschaften der Siliziumoxidschichten mit denen aus dem Sol-Gel-Verfahren verglichen.
Galvanotechnik, 101 (2010)12, S. 2884-2889, 6 Abb.; 15 Lit.-Hinw. Pfuch, A., et.al.
Use of Thin Silicon Oxide Films Formed Using Atmospheric Pressure PACVD
Using a newly-developed plasma process in conjunction with a precursor species and a working gas, thin silicon oxide films can be formed, which can be used as barrier layers or for corrosion protection on a wide range of substrates. The process was investigated using both non-metallic substrates such as glass or plastics, as well as light metals. In the case of PET film substrates, the properties of these silicon oxide coatings were compared with those formed using a sol-gel routine.
