Hochpräzise Nanoimprint-Templates für 3D-Strukturen
Oberflächen mit funktionellen Eigenschaften feinere Strukturen haben in zunehmendem Maße an Bedeutung gewonnen. Allerdings müssen zu deren Herstellung über die konventionellen photolithografischen Techniken neue Verfahren entwickelt werden. Eine solche Technologie ist die Nanoimprint-Lithografie, die auf einem Abdruckverfahren mit kleinsten Strukturabmessungen beruht. Deren Anwendungsmöglichkeiten wird an Beispielen aus der Optik, Elektronik, Medizintechnik und Photovoltaik vorgestellt.
Galvanotechnik, 100 (2009)10, S. 2376-2382, 7 Abb., 7 Lit.-Hinw. Wittzak, S.; Köhler, F.; Wang, X.; Setyawati, O.; Woit, T.; Albrecht, A.; Engenhorst, M.; Schudy, S.; Woidt, C.; Bartels, M.; Hillmer, H.
High-Precision Nano-Imprint Templates for 3D Structures
Surfaces whose functionality is due to fine-structured surfaces, are of increasing importance. Their wider use, however, calls for a means of production better than conventional photolithography. Such a method is offered by nano-imprint lithography, an impression technique allowing the most finely-detailed structures to be formed. Areas of application include optics, electronics, meeical technology and photovoltaics.
Galvanotechnik, 100 (2009)10, S. 2376-2382, 7 Abb., 7 Lit.-Hinw. Wittzak, S.; Köhler, F.; Wang, X.; Setyawati, O.; Woit, T.; Albrecht, A.; Engenhorst, M.; Schudy, S.; Woidt, C.; Bartels, M.; Hillmer, H.
