Innovativer galvanischer Nickel-Phosphor-Prozess für die Steckverbinder- und die Halbleiterindustrie
Nickel-Phosphor-Schichten wurden bisher vorwiegend aus chemisch abscheidenden Elektrolyten gewonnen. Den sehr guten Eigenschaften der erhaltenen Schichten (Verschleiß, Korrosionsbeständigkeit, Schichtdickenverteilung) steht die geringe Abscheidegeschwindigkeit der Elektrolyte entgegen. Mit neuen galvanisch arbeitenden Verfahren lassen sich Nickel-Phosphor-Schichten auch in Bandbeschichtungsanlagen abscheiden. Durch Zusätze kann der Phosphorgehalt auf Werte zwischen 4 und 17 Gew.% eingestellt werden. Die Härte der Schichten liegt im Bereich zwischen 500 und 600 HV0,2. Solche Schichten zeigen neben der guten Korrosionsbeständigkeit auch eine sehr gute Bondbarkeit.
Galvanotechnik, 99 (2008)11, S. 2694-2702, 14 Abb., 2 Tab., 14 Lit.-Hinw. Kurtz, O.; Barthelmes, J.; Danker, M.; Rüther, R.
Novel Nickel-Phosphorus Electrodeposition Process for Plug Connectors and the Semiconductor Industry
Nickel-phosphorus coatings have, until recently, been mainly deposited by electroless methods. The excellent properties of such deposits (wear-and corrosion-resistance, deposit uniformity) have, however, to be set against the relatively low deposition rate. Newly developed electrolytic processes allow these coatings to be formed in continuous strip plating applications. Using appropriate addition agents, the phosphorus content can be maintained at any desired level in the range 4 to 17 wt%. The hardness of these deposits lies ion the range 500 to 600 HV0.2. Apart from their excellent corrosion resistance, these coatings also have good bondability.
Galvanotechnik, 99 (2008)11, S. 2694-2702, 14 Abb., 2 Tab., 14 Lit.-Hinw. Kurtz, O.; Barthelmes, J.; Danker, M.; Rüther, R.
