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Technologie und Ausrüstung für die Ultraschallreinigung von elektronischen Produkten

Der Trend zur umweltfreundlichen Elektronik macht die Prozesse und die Geräte zur Ultraschallreinigung von elektronischen und elektrooptischen Modulen attraktiv. Um resistente Verunreinigungen von der Baugruppenoberfläche zu entfernen, müssen die gerichteten akustischen Ströme in einem flüssigen Medium erzeugt werden und die Homogenität des Kavitationsfeldes im Ultraschallbad sichergestellt werden. Dabei ist zu beachten, dass durch eine zu hohe Ultraschallleistung Oberflächenbereiche abgetragen bzw. Bauteile geschädigt werden können, während bei zu geringer Leistung die Reinigungswirkung ungenügend ist. Zudem wird die Schallleistung gerichtet abgegeben. Deshalb ist die Anpassung der Leistung und der Abgaberichtung des Ultraschalls wichtig.

Technology and Equipment for Ultrasonic Cleaning of Electronic Components

The trend to use of environmentally-friendly electronics is one that increasingly favours ultrasonic cleaning of electronic or electronoptical components. In order to remove even the most obdurate contaminant particles, suitable acoustic energy fluxes must be set up in a liquid medium and a homogeneous cavitation zone in the ultrasonic bath ensured. However too high an ultrasonic flux can damage the component surface, while too low a flux can result in incomplete cleaning. Moreover, the ultrasonic energy is not directionally uniform. Thus not only the ultrasonic energy but also its direction is critical.

Fähigkeiten

Substratmaterial


Schichtmaterial


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