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Hochratenabscheidung von hydrogenisierten amorphen Kohlenstoffschichten (a-C:H) mittels plasmaaktivierter chemischer Gasphasenabscheidung (PECVD)
Eine neue Niederdruck-Mikrowellen-Plasmarundquelle bietet die Möglichkeit zur Abscheidung von Hochleistungsschutzschichten aus a-C:H mit Raten von bis zu 6 μm/h in zweifach rotierenden Batchprozessen, wie sie beispielsweise zur Beschichtung von Bauteilen und Werkzeugen eingesetzt werden. Die lange Prozessstabilität, die leichte Reinigung und die Möglichkeit der aktiven Prozessregelung erlauben dabei innerhalb eines Batchprozesses über 10 μm dicke Schichten aus DLC abzuscheiden und somit Beschichtungen im industriellen Maßstab vorzunehmen. Durch den breiten Arbeitsdruckbereich im parallelen Betrieb mit PVD-Prozessen (z.B. Magnetronzerstäuben oder Arc-Verdampfen) eignet sich das System zur Herstellung von neuen Schichtsystem aus Nanokompositen. Je nach Material erlaubt die Einrichtung einen gleichzeitigen Einsatz als Reinigungs- und Trockenätzquelle.
WOMag 9/2017 Radny, Tobias; Schäfer, Rolf; Ulrich, Sven
High-rate Deposition of Hydrogenated Amorphous Carbon Coatings (a-C:H) Using Plasma-Activated Chemical Gas-Phase Deposition (PECVD)
A new low-pressure microwave plasma source offers the possibility of depositing high-performance protective coatings made of a-C:H with deposition rates up to 6 μm/hour in a doubly rotating batch process such as, for example, the coating of components and tools. A lengthy process stability with a light cleaning action and the possibility of active process control, permit – within a single batch process – the deposition of DLC coatings up to 10 μm thick, thus allowing industrialscale coating thicknesses to be obtained. Thanks to a wide operating pressure window and used with PVD processes (e.g. magnetron sputtering or arc evaporation), the system is ideal for production of new multilayer systems based on nanocomposites. Depending on the materials used, this configuration also allows simultaneous cleaning and dry-etching to be carried out.
