Läuferscheibe, Verfahren zur Beschichtung einer Läuferscheibe sowie Verfahren zur gleichzeitigen beidseitigen Material abtragenden Bearbeitung von Halbleiterscheiben
Die Erfindung betrifft eine Läuferscheibe, geeignet zur Aufnahme einer oder mehrerer Halbleiterscheiben zu deren Bearbeitung in Läpp-, Schleif- oder Poliermaschinen, umfassend einen Kern aus einem ersten Material, das eine hohe Steifigkeit aufweist, der vollständig oder teilweise mit einem zweiten Material beschichtet ist, sowie wenigstens eine Aussparung zur Aufnahme einer Halbleiterscheibe, dadurch gekennzeichnet, dass es sich beim zweiten Material um ein duroplastisches Polyurethan-Elastomer mit einer Härte von 20-90 nach Shore A handelt. Außerdem betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Beschichten von Läuferscheiben und ein Verfahren zur gleichzeitigen beidseitigen Material abtragenden Bearbeitung mehrerer Halbleiterscheiben unter Verwendung solcher Läuferscheiben.
EP 10 2007 049 811.1 - B24B 37/04. AT 17.10.2007; OT 23.04.2009; PT 28.07.2016. Anm.: Peter Wolters GmbH, 24768 Rendsburg, DE; Siltronic AG, 81737 München, DE. Erf.: Pietsch, Georg, J., Dipl.-Phys. Dr., 84489 Burghausen, DE Kerstan, Michael, 84489 Burghausen, DE Spring, Heiko, aus dem, 35781 Weilburg, DE