Vorrichtung zum Beschichten optischer Gläser mittels plasmaunterstützter chemischer Dampfabscheidung (CVD)
Beschreibung: Eine Vorrichtung zum Beschichten optischer Gläser mittels plasmaunterstützter chemischer Dampfabscheidung (CVD) wird vorgeschlagen. Ein zylindrischer Reaktor dient zur Aufnahme der zu beschichtenden Gläser. Mindestens ein Mikrowellengenerator ist zum Einkoppeln eines Mikrowellensignals vorbestimmter Mikrowellenfrequenz in den Reaktor vorgesehen. Der mindestens eine Mikrowellengenerator weist eine Mikrowellenquelle auf, die über ein Moden-Interferenzfilter an den Reaktor gekoppelt ist.
PS 10 2004 030 344.4 – C23C 16/511. AT 18.06.2004; OT 12.01.2006; PT 06.12.2012. Anm.: Carl Zeiss, 89518 Heidenheim, DE. Erf.: Neuffer, Andreas, Dr., 71679 Asperg, DE, Holz, Lothar, 73432 Aalen, DE.