Verfahren zur stromlosen Metallabscheidung und Halbleiterwafer mit darauf ausgebildeter Metallabscheidungsschicht

WP 603 49 115.4 - C23C 18/28. AT 26.03.2003; OT 06.11.2003; PT 06.07.2016. Anm.: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Tokyo, JP. Erf.: Imori, Toru, Kitaibaraki-shi, Ibaraki 319-1535, JP Sekiguchi, Junnosuke, Kitaibaraki-shi, Ibaraki 319-1535, JP Yabe, Atsushi, Kitaibaraki-shi, Ibaraki 319-1535, JP

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