Anordnung zur Beschichtung von Substraten
PS 10 2009 030 814.8 – C23C 14/22. AT 26.06.2009; OT 05.01.2011; PT 06.02.2014. Anm.: VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH, 01324 Dresden, DE. Erf.: Faber, Jörg, Dr., 01809 Müglitztal, DE, Pollack, Gerd, 01640 Coswig, DE, Barth, Sven, 01109 Dresden, DE, Steuer, Christoph, 04720 Döbeln, DE, Kralapp, Uwe, 01458 Ottendorf-Okrilla, DE, Uhlemann, Aiko, 09633 Halsbrücke, DE, Sens, Martin, 01099 Dresden, DE, Hummel, Hendrik, 01108 Dresden, DE.
Beschreibung:
Der Erfindung, die eine Anordnung zur Beschichtung von Substraten betrifft, die in einem Vakuumraum eine Beschichtungsquelle und eine Substratauflage aufweist, zu der die Beschichtungsquelle einseitig angeordnet ist, so dass die Substratauflage eine zu der Beschichtungsquelle weisende Beschichtungsquellenseite und eine der Beschichtungsquelle abgewandte Rückseite aufweist und dass die Substratauflage in dem Vakuumraum einen Beschichtungsraum auf der Beschichtungsquellenseite und einen Rückseitenraum auf der Rückseite der Substratauflage definiert, liegt die Aufgabe zugrunde, eine Hinterdampfung von Substraten bei deren Vakuumbeschichtung zumindest zu minimieren. Dies wird dadurch gelöst, dass in dem Rückseitenraum eine die nicht zur Beschichtung vorgesehenen Teilchen bindende Teilchenfalle angeordnet ist.