Verfahren zum Entfernen eines Oxidfilms auf einer Oberfläche aus Kupfer oder Legierung auf Kupferbasis.

EP 60 2012 002 742.8 – C23G 1/36. AT 13.12.2012; OT 19.06.2013; PT 13.08.2014. Anm.: Mitsubishi Materials Corp., Tokyo, JP. Erf.: Tarutani, Yoshie, Aizuwakamatsu-shi,, Fukushima 965-8522, JP, Okada, Kenzi, Sakai-shi,, Osaka 8-374, JP, Kato, Naoki, Naka-shi,, Ibaraki 311-0102, JP, Kubota, Kenji, Naka-shi,, Ibaraki 311-0102, JP, Kumagai, Jyunichi, Aizuwakamatsu-shi,, Fukushima 965-8522, JP, Nakayama, Hiroaki, Sakai-shi,, Osaka 8-374, JP.

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